TiO₂由于它的高折射率和相对坚固性，人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域,但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TiO₂,Ti2O3. TiO,Ti，这些原材料氧-钛原子的模拟比率分别为:2.0,1.67,1.5,1.0,0. 后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在550nm生成一个重复性折射率为2.21的坚固的膜层，比率为2的材料第一层产生一个大约2.06的折射率，后面的膜层折射率接近于2.21.比率为1.0的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21.这几种膜料都无吸收性，几乎每一个TiO2蒸着遵循一个原则:在可使用的光谱区内取得可以忽略的 吸收性，这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TiO2需要使用IAD助镀，氧气输入口在挡板下面.

        Ti3O5比其它类型的氧化物贵一些，可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些，PULKER等人指出，最后的折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的，基板温度高则得到高的折射率.例如，基板板温度为400℃时在550纳米波长得到的折射率为2.63，可是由于别的原因，高温蒸着通常是不受欢迎的，而离子助镀已成为一个普遍采用的方法其在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射，通常需要提供足够的氧气以避免(因为有吸收则降低透过率)，但是可能也需要降低吸收而增大镭射损坏临界值(LDT).TiO2的折射率与真空度和蒸发速度有很大的关系，但是经过充分预熔和IAD助镀可以解决这一难题，所以在可见光和近红外线光谱中，TiO2很受到人们的欢迎. 在IAD助镀TiO2时，使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV，而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%，如果离子能量超过以上数值，TiO2将有吸收.而SiO2有电子枪蒸发可以提供600EV碰撞(离子辐射)能量而没有什么不良效应. TiO2/SiO2制程中都使用300EV的驱动电压，目的是在两种材料中都使用无栅极离子源，这样避免每一层都改变驱动电压，驱动电压高低的选择取决于TiO2所允许的范围，而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围. TiO₂用于防反膜，分光膜，冷光膜，滤光片，高反膜,眼镜膜，热反射镜等，黑色颗粒状和白色片状，熔点:1175℃